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廣東HiPIMS，低溫ITO沉積的機會！
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關于新鉑
新鉑科技（東莞）有限公司成立于2020 年底，是新鉑科技的主要生產基地，具有4條組裝生產線和5條檢測調試線，廠房面積2000+，現(xiàn)有員工20+。是國內專業(yè)從事真空鍍膜系統(tǒng)的研發(fā)、制造、銷售為一體的國家級高新技術企業(yè)。其研發(fā)中心位于東莞市松山湖大學創(chuàng)新城，其研發(fā)人員均為碩士以上學歷（其中博士6人），在相關領域發(fā)表學術論文300余篇。
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60%
研發(fā)人員占比
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300+
發(fā)布學術論文
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4.5星級
客戶好評
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50+個
課題合作研發(fā)
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20+個
定制開發(fā)項目
企業(yè)榮譽
新聞中心
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廣東2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇在松山湖材料實驗室成功舉辦
12月14日，由松山湖材料實驗室、哈爾濱工業(yè)大學材料結構精密焊接與連接全國重點實驗室以及等離子體放電團隊孵化的高能脈沖PVD電源企業(yè)新鉑科技(東莞)有限公司聯(lián)合主辦的“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”在松山湖材料實驗室會議中心成功舉行。...
- 2024-12-18 11:47:48 | →
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廣東2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇在莞舉行
12月14日，“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇”在松山湖材料實驗室舉辦。此次論壇由松山湖材料實驗室、材料結構精密焊接與連接全國重點實驗室聯(lián)合舉辦，由高能脈沖PVD電源的領軍企業(yè)新鉑科技東莞有限公司提供支持。...
- 2024-12-18 10:37:22 | →
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廣東250多名高能脈沖PVD專家齊聚東莞，共探技術產業(yè)融合路徑
12月14日，來自高校、中國科學院、企業(yè)的250多名代表齊聚東莞“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”，共同研討高能脈沖PVD（真空鍍膜）領域的研究成果和未來發(fā)展趨勢。論壇由松山湖材料實驗室、材料結構精密焊接與連接全國重點實驗室、新鉑科技（東莞）有限公司聯(lián)合舉辦。...
- 2024-12-18 10:34:05 | →
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廣東2024大灣區(qū)高能脈沖 PVD 高峰論壇成功舉辦，引領行業(yè)前沿發(fā)展
2024年12月14日，備受矚目的高能脈沖PVD高峰論壇在東莞松山湖材料實驗室盛大召開。 本次論壇匯聚了北京大學、清華大學、浙江大學、中科院固體所、華南理工大學、哈爾濱工業(yè)大學、澳門大學、香港城市大學、季華實驗室以及華為、華星光電等250多位國內該領域的專家、學者以及企業(yè)代表，共同探討高能脈沖PVD技術的進展與未來趨勢，為行業(yè)的發(fā)展注入了新的活力與智慧。...
- 2024-12-18 10:28:35 | →
廣東真空磁控濺射涂層技術與真空蒸發(fā)涂層技術的區(qū)別
真空磁控濺射涂層技術不同于真空蒸發(fā)涂層技術。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面（目標），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。...
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廣東在光學鍍膜應用中，如何通過控制膜層厚度和折射率來實現(xiàn)特定的光學性能
設備精度保障：使用高精度的鍍膜設備，如采用電子束蒸發(fā)或磁控濺射設備，其厚度控制精度可達納米級。這些設備配備膜厚監(jiān)測儀，實時反饋膜層生長情況，控制提供硬件基礎。...
- 2025-03-07 10:24:23 | →
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廣東如何選擇適合的真空鍍膜材料？
光學性能需求：若要提高鏡片的透光率，可選擇二氧化硅（SiO?）、二氧化鈦（TiO?）等具有特定折射率和低吸收特性的材料來制作增透膜。若是制備光學反射鏡，則可選用鋁（Al）、銀（Ag）等具有高反射率的金屬材料。...
- 2025-03-07 10:19:39 | →
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廣東真空鍍膜材料有哪幾種
在工業(yè)生產中，滾筒輸送流水線發(fā)揮著重要作用，但長時間運行后，難免會出現(xiàn)一些故障，影響生產效率。了解常見故障及解決辦法，能有效保障生產的順利進行。...
- 2025-02-26 16:02:18 | →
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廣東光學膜層厚度的控制方法
在光學薄膜的制備過程中，控制膜層厚度至關重要，它直接影響到薄膜的光學性能，比如反射率、透射率以及特定波長的選擇透過性等。以下是幾種常見的光學膜層厚度控制方法。...
- 2025-02-22 16:07:26 | →
廣東管道結垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展！
在石油行業(yè)，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產效率提高10%~15%。然而，隨著石油產量的增加，也面臨著更多的挑戰(zhàn)，管道腐蝕是其中之一。對于二氧化碳增強采收率（EOR）技術，生產油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化，...
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廣東真空鍍膜的附著力探討
一般來說，真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因為在真空環(huán)境下，鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜減少了雜質和氧化的影響，從而有利于提高鍍膜與基材之間的結合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
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廣東HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎
HiPIMS（高功率脈沖磁控濺射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術，它利用高頻脈沖電源產生的高密度等離子體來進行材料的濺射沉積。相較于傳統(tǒng)的直流磁控濺射（DCMS），HiPIMS技術具有更高的離子化率、更好的薄膜質量以及更均勻的薄膜厚度等優(yōu)點。因此，HiPIMS技術在薄膜沉積領域得到了廣泛的應用，尤其是在制備高質量、高性能薄膜材料方面表現(xiàn)突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →